涂胶显影机与光刻机联机作业。点击下方工序可以跳转，也可以拖动进度条查看任意时刻。
布局参考 TEL CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z（涂胶显影机）与 ASML TWINSCAN（光刻机）的外观和内部结构。流程为教学示意：实机的模块数量、热板与冷板的叠放层数、各步骤参数会随工艺与光刻胶不同而变化；图中以正性化学放大胶为例，潜像的紫色为示意（真实潜像肉眼不可见）。